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      日本otsuka大塚電子 光譜干涉式晶圓厚度計SF-3的測量示例

      更新時間:2024-03-15      瀏覽次數:643

      日本otsuka大塚電子 光譜干涉式晶圓厚度計SF-3的測量示例

      特征
      • 光學方法可實現非接觸式、無損厚度測量

      • 實現高測量重復性

      • 可實現高速實時拋光監控

      • 實現長WD(工作距離)并且易于集成到設備中

      • 由主機設備使用 LAN 通過 TCP/IP 通信進行控制

      • 可測量多層厚度

      • 能夠測量臨時晶圓(臨時鍵合晶圓)各層厚度

      映射

      ■300毫米晶圓兼容測繪系統

      • 對齊精細圖案并提供晶圓厚度和各種厚度信息

      • 配備高精度XY定位平臺(±2μm以下),實現高精度定位。

      • 提供晶圓以外的形狀

      • 您可以檢查測量點周圍的視野

      • 兼容半導體用300mm晶圓

      • 與 MEMS 和傳感器設備兼容

       

       

      日本otsuka大塚電子 光譜干涉式晶圓厚度計SF-3的測量示例

      測量示例

      測量示例
      暫時鍵合晶圓與支撐晶圓

      Φ300mm硅片厚度測量

       

      光譜干涉式晶圓厚度計SF-3


      在晶圓等研磨、拋光過程中,可以非接觸式超高速、高精度測量晶圓和樹脂的厚度。













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